設(shè)備簡(jiǎn)述:
ZY-1211模具多弧離子鍍膜機(jī)是我司自主研發(fā)的超硬膜離子鍍膜機(jī)，采用獨(dú)有的新型過(guò)濾弧源鍍膜技術(shù)、電子槍輔助鍍膜技術(shù)使電弧在整個(gè)靶材表面做快速的移動(dòng)，增強(qiáng)了靶材的離化率，使得靶材表面被均勻刻蝕，涂層表面光滑致密的同時(shí)優(yōu)化了涂層結(jié)合力，確保了涂層厚度及涂層的均勻性。同時(shí)，新技術(shù)的應(yīng)用提高了鍍膜效率，節(jié)約了能源和運(yùn)行成本。|
爐體尺寸 |
φ1200*H1100 |
有效空間 |
φ850*H700 |
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工件最大直徑*數(shù)量 |
φ150*12個(gè) |
抽氣時(shí)間 |
大氣到6X10-3 <15分鐘 |
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工作電壓/頻率 |
380V/50Hz |
實(shí)際功率 |
70KW |
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應(yīng)用技術(shù) |
HCD+ARC |
靶材數(shù)量 |
12個(gè) |
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極限壓力 |
5.0*10-4Pa |
漏率 |
<10-3Pa.L/s |
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標(biāo)準(zhǔn)涂層 |
TiN、CrN、TiCN、AlTiN等 |
其它復(fù)合涂層 |
TiAlCrN、TiSiN、TiCrN、DLC等 |
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工件轉(zhuǎn)架結(jié)構(gòu) |
下轉(zhuǎn)架結(jié)構(gòu) |
真空室結(jié)構(gòu) |
立式單開門 |
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電源類型 |
弧電源、脈沖偏壓電源、電子槍電源 |
真空系統(tǒng) |
分子泵、羅茨泵、直聯(lián)泵 |
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生產(chǎn)周期 |
3-6小時(shí)/爐 |
外圍尺寸 |
L4200*W2900*H2600mm |
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產(chǎn)量/爐 |
銑刀φ10*70 900 |
配套條件 |
循環(huán)水壓力：2-3KG/CM3 |
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刀粒φ18*6 6600 |
水量：10T/H |
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滾刀φ80*80 68 |
壓縮空氣：4-6 KG/CM3 |
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模具 500KG |
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控制方式 |
PLC+觸摸屏 組態(tài)軟件 |
工作氣體 |
Ar、N2、O2、C2H2等 |
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工業(yè)PC+PLC+觸摸屏 |
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自己開發(fā)的鍍膜專用軟件 |
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適用范圍 |
適用于注塑、五金、壓鑄、沖壓、成型等模具，各類零件、配件及切削刀具、刀粒等 |
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備注 |
真空室尺寸，外圍尺寸，設(shè)備外觀等可按客戶產(chǎn)品或及特殊工藝要求訂做 |
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